一、儀器概述

直讀光譜儀創(chuàng)造性地結合氬循環(huán)技術；可分析鐵基體材料，能快速準確定量分析，金屬材料質(zhì)量控制和科學研究的理想解決方案。

直讀光譜儀使用日本Hamamatsu公司的CMOS信號采集元件，每個CMOS可以分別設置火花的數(shù)量。 它采用真空光室設計和全數(shù)字激發(fā)光源。該CMOS光譜儀不僅具有全光譜CCD光譜儀的特點，而且還具有PMT光譜儀的優(yōu)點，對非金屬元素具有很低的檢測限。 整機的設計合理。 它還具有操作簡便，測試精度高，長期穩(wěn)定等優(yōu)點。

二、規(guī)格和技術參數(shù)

2.2 光學系統(tǒng)

帕型-龍格結構的全譜光學系統(tǒng)

最大波長范圍（140～680）nm

多個高性能CMOS探測器

一體化光學室加工成型，動態(tài)羅檔園安裝，耐環(huán)境溫度變化

真空光室設計，保證C、S、P都能達到最佳性能。

光室恒溫控制，恒溫溫度為35℃；

直射式光學技術及透鏡MgF2材料，保證C、S、P紫外波長的最佳能量。

2.3 樣品激發(fā)臺

集成氣路、噴射電極技術

優(yōu)化的氬氣氣路設計保證激發(fā)臺的有效冷卻和激發(fā)過程中產(chǎn)生的金屬粉塵有效進入過濾器；使樣品激發(fā)更加穩(wěn)定，并大大減少了人體對金屬粉塵的攝入，有利于保護操作人員的健康安全；

更小的激發(fā)空間，使氬氣消耗更??；

便于使用的樣品夾具

具有電極自吹掃功能，使電極使用壽命更長、清潔電極更加容易

13 mm的激發(fā)孔徑更利于樣品分析

開放式樣品激發(fā)臺可適應各種大小、更多形狀樣品的分析（含線材）；

單反式透鏡裝置設計，一般人員都能方便對激發(fā)臺進行維護和透鏡的清洗

2.4 激發(fā)光源

全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，最高頻率可達1000Hz；

高能預燃技術（HEPS）；

優(yōu)化設計的控制和功率電路，完善的激發(fā)安全保護功能

為不同分析目標提供最佳火花、電弧或組合激發(fā)波形

放電電流：最大400 A

2.5數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

高性能ARM數(shù)據(jù)處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能

高性能CMOS固態(tài)檢測技術，波段內(nèi)的譜線全譜接收；

外置式計算機（用戶自選）

FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術，數(shù)據(jù)讀入功能強大，檢測數(shù)據(jù)整體讀入時間短

2.6分析軟件

基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CMOS全譜圖形化分析軟件，方便實用

綜合管理的控制整個測量過程及為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力

儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及先進解決方案

軟件實現(xiàn)全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力

完備的自動系統(tǒng)診斷功能

完善的數(shù)據(jù)庫管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)

智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠

完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準

適應最新的Windows操作系統(tǒng)

一鍵式操作，快速簡便的操作，根據(jù)工廠要求調(diào)整。